12月18日消息，可替雖然在EUV光刻機上已經出局，光刻但日本依然是機工全球第二大光刻機供應商，這幾年日本公司也在憋足勁開發(fā)可替代EUV的藝直印技光刻方案，他們選擇了NIL納米壓印技術路線。逼n本開
此前日本佳能、發(fā)全尼康等公司有過這種技術展示，新納現(xiàn)在日本DNP公司（大日本印刷株式會社）也宣布開發(fā)出了10nm的米壓NIL納米壓印技術，可以將電路圖直接印在基板上，可替該技術可以用于1.4nm工藝的光刻邏輯芯片曝光。
具體技術上，機工DNP的藝直印技10nm納米壓印技術采用SADP自對準雙重圖案技術，一次曝光+兩次圖案能夠制造成雙倍精度的逼n本開芯片，可以滿足先進工藝邏輯芯片的發(fā)全要求，而且功耗優(yōu)勢明顯，新納DNP公司稱其能耗只有當前主流工藝的1/10左右。
該公司已經研發(fā)NIL技術超過20年，目前的技術已經可以部分替代EUV光刻，為芯片制造商提供另一種高精度工藝生產的選擇，現(xiàn)在已經在跟硬件供應商合作啟動技術評估。
DNP公司預計在完成客戶驗證，建立量產和供應體系之后，預計2027年開始量產出貨。